Niobium Sputtering Target

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metallmaterialien co ., Ltd . befindet hafnium, tantalum tungsten alloy, niobium hafnium alloy c103, as well as deep processed products such as ships, crucibles, sputtering targets, coating targets, machined parts, high-temperature furnace insulation screens, heating elements, furnace bodies (heating furnaces, annealing furnaces), and corrosion-resistant equipment.

 

 

Spezifikationsparameter und Zielmaterialtypen

01.

Größenspezifikationen

Rund -Zieldurchmesser: Die Standardgrößen enthalten Durchmesser 25 . 4mm, 50 . 8mm, 76,2 mm, 101,6 mm, 127 mm und 152,4 mm. Angeordnete Durchmesser können auf 20-400 mm erweitert werden.

Square Zielgröße: Dicke 1-20 mm x Breite 10-1000 mm x Länge 200-2000 mm (unterstützt die nicht standardmäßige Anpassung) .

Drehende Ziellänge: Bis zu 1500 mm, die eine Bindung an eine sauerstofffreie Kupfer -Rückplatte erfordert .

02.

Zielmaterialtyp

Flaches Ziel: Kreis-/quadratisches Substrat, Flachheitabweichung weniger als oder gleich 0 . 2mm.

Rotationsziel: Zylindrische Struktur, geeignet für große Flächen . Beschichtungsausrüstung .

Verbundzielmaterial:
       
Bindende Kupfer -Rückplatte: Kupferschichtdicke von 2-3 mm, Grenzfläche Porosität kleiner oder gleich 0 . 1%.
       
Legierungsziel (wie TANB20): einstellbares Tantal -Niobium -Verhältnis (Ta =80: 20/70: 30/60: 40) .

Kernanwendungsbereiche

1, Halbleiter- und Chipherstellung
Leitfähige Schicht/Barriereschicht: Das Hochpuritätszielmaterial von 4n Grad (größer oder gleich 99 . 99%) wird als Diffusionssperrschicht für Kupferverbindungen in Chips verwendet, wodurch die Miniaturisierung von 5G-Chips unterstützt wird.
Speichergeräte: Festplatte (HDD) Magnetschicht und SSD -Schutzfilmablagerung zur Verbesserung der Datenspeicherdichte .

2, spezielle Industrie und wissenschaftliche Forschung
Geräte zur Kernphysik: Strahlenresistente Niobiumblätter (Dicke 0.1-5 mm) werden für Partikeldetektoren und Abschirmkomponenten verwendet. .
Luft- und Raumfahrt: Hochtemperaturbeständige Beschichtung für Turbinenblätter (1700 Grad C -Arbeitszustand), ausgezeichneter thermischer Stoßschockwiderstand .}
Medizinprodukte: Biokompatible Beschichtung, Oberflächenveränderung orthopädischer Implantate .

3, neue Energie- und optische Geräte
Photovoltaic cells: Anti reflective layer/conductive layer, light transmittance>95%, Verbesserung der photoelektrischen Umwandlungseffizienz .
Energiesparglas: Low-E beschichtete Glas, Infrarotreflexionskontrolle, Energiesparungsrate von 30%.
LIDAR: Der optische Anti -Reflexionsfilm von LIDAR reduziert den Verlust des Lichtstreus und verbessert die Signalgenauigkeit .

Niobium sputtering target material, as the core material of high-performance coating, has become an indispensable key component in the fields of semiconductors, new energy, and special industries due to its excellent high temperature resistance, chemical stability, and functional adjustability. In the future, with the iterative upgrading of technologies such as 5G chips and photovoltaic cells, the demand for high-purity and Customized NioBium -Zielmaterialien werden sich weiter ausdehnen und die Entwicklung von Materialvorbereitungsprozessen in Richtung größerer Präzision und Grün . fördern. .

Beliebte label: Niobium Sputtering Target, China Niobium Sputtering -Zielhersteller, Lieferanten, Fabrik, Tantalpulver für Kondensatoren